Статья: Легирование ионами бора варизонных эпитаксиальных пленок МЛЭ КРТ (2007)

Читать онлайн

Представлены экспериментальные результаты по облучению ионами бора эпитаксиальных пленок КРТ с различными варизонными слоями в приповерхностной области материала. Показано, что наблюдаемые отличия результатов ионной имплантации в эпитаксиальные пленки МЛЭ КРТ с переменным составом в области внедрения имплантанта и объемный материал КРТ главным образом обусловлены различной динамикой накопления электрически активных радиационных дефектов и зависимостью электрофизических свойств материала от состава КРТ. Анализ распределения электрически активных дефектов по глубине облученного материала свидетельствует о том, что дополнительные факторы, связанные с наличием градиента состава в области внедрения имплантанта, не оказывают определяющего влияния на миграцию первичных радиационных дефектов.

In the paper experimental results on boron implantation of the CdxHg1-xTe epilayers with various composition near surface of the material are discussed. The electron concentration in the surface layer after irradiation vs irradiation dose and ion energy are investigated for range of doses 1011— 3·1015 cm-2 and energies of 20—150 keV. Also the results of the electrical active defects distribution measurement, carried out by differential Hall method, after boron implantation are represented. Consideration of the received data shows, that composition gradient influence mainly on the various dynamics of accumulation of electric active radiation defects. The electric active defects distribution analysis shows, that the other factors are negligible.

Ключевые фразы: млэ крт, ионное легирование бором, варизонные эпитаксиальные пленки
Автор (ы): Войцеховский Александр Васильевич (Voytsehovskiy A. V.), Григорьев Д. В., Коротаев Александр Григорьевич, Коханенко Андрей Павлович, Варавин Василий Семенович, Дворецкий Сергей Алексеевич, Сидоров Ю. Г., Михайлов Н. Н., Талипов Нияз Хатимович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.592. Полупроводники
Для цитирования:
ВОЙЦЕХОВСКИЙ А. В., ГРИГОРЬЕВ Д. В., КОРОТАЕВ А. Г., КОХАНЕНКО А. П., ВАРАВИН В. С., ДВОРЕЦКИЙ С. А., СИДОРОВ Ю. Г., МИХАЙЛОВ Н. Н., ТАЛИПОВ Н. Х. ЛЕГИРОВАНИЕ ИОНАМИ БОРА ВАРИЗОННЫХ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ ПЛЕНОК МЛЭ КРТ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2007. №6
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (10)
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.