Научный архив: статьи

Рассмотрены тенденции развития современного вакуумного оборудования и проблемы создания сверхчистой вакуумной технологической среды в электронном производстве. Приведены данные по минимальным размерам топологии микросхем и внутрикамерных устройств без узлов трения с использованием для формирования усилий и перемещений управляемой упругой деформации. Такой подход обеспечивает создание современной индустрии высоких вакуумных технологий.

Приведено устройство точного позиционирования для электронных микроскопов, не создающее электромагнитных помех, которое может быть использовано в ряде биологических и других исследований, требующих полного отсутствия данных помех. При этом устройство обеспечивает приемлемую точность позиционирования, сравнимую с пьезомеханическими системами.

Рассмотрены перспективы создания миниатюрных электронно‐зондовых устройств с использованием миниатюрных элементов вакуумной электроники. Представлены результаты проектирования и исследования миниатюрных базовых элементов электроннооптических систем и откачных вакуумных средств. Рассмотрены принципиально новые подходы к проектированию миниатюрных электронно‐оптических и вакуумных систем, позволяющие перейти к практическому использованию низковольтной техники, обеспечивающей снижение радиационной нагрузки на объект при высокой разрешающей способности, а также переход к технологии вакуумной микросистемной техники. Приведены новые миниатюрные системы вакуумной откачки для использования в данных устройствах.

Рассмотрены вопросы виброзащиты объектов в аналитическом и технологическом оборудовании. Предложена четырехуровневая система защиты объектов микроэлектроники от вибраций. Для каждого из уровней системы представлены технологические решения виброзащитных устройств.

Рассмотрены преимущества и различные возможности проектирования и разработки многофункционального многопучкового электронно‐лучевого оборудования без привносимой дефектности, с низкими радиационными нагрузками на обрабатываемый объект при производстве изделий микроэлектроники, компьютерной электронно‐лучевой оптики и системотехнических устройств.

Рассмотрены причины низкого фазового контраста изображения в атомно-силовом микроскопе (АСМ) при исследовании поверхности. Определены пути улучшения фазового контраста изображения в АСМ. Рассмотрены принципиально новые подходы к проектированию АСМ с миниатюрной вакуумной системой, обеспечивающей условия для улучшения фазового контраста изображения.