Создание сверхчистой вакуумной технологической среды в электронном производстве (2010)
Рассмотрены тенденции развития современного вакуумного оборудования и проблемы создания сверхчистой вакуумной технологической среды в электронном производстве. Приведены данные по минимальным размерам топологии микросхем и внутрикамерных устройств без узлов трения с использованием для формирования усилий и перемещений управляемой упругой деформации. Такой подход обеспечивает создание современной индустрии высоких вакуумных технологий.
Издание:
ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА
Выпуск:
№5 (2010)