Разработаны методики анализа на отказ и точной локализации дефектов интегральных схем с применением комбинаций методов наведенного тока и потенциального контраста в растровом электронном микроскопе. На основании экспериментальных данных выявлены основные виды дефектов, приводящих к отказам мультиплексоров. Рассмотрена возможность исправления дефектов с помощью технологии фокусированных ионных пучков.
Приведены результаты первых исследований по созданию полупроводниковых фоточувствительных структур на фианите. Отработаны этапы технологии создания полупроводниковых фотоприемников с защитными пленками ZrO2 (аналогами фианита). На основе измерений пробных образцов показана перспективность использования пленок ZrO2 для полупроводниковых фотоприемников.