Разработан портативный плазменный стерилизатор с нагнетанием плазмообразующего газа (аргон) через завихритель, который создает в разрядном промежутке винтовой вихревой поток газа. При расходе газа > 510–5 кг/с поток газа закручивается и стримерный разряд заполняет всю площадь сечения анода на выходе из сопла. Генерируемая в разрядном промежутке нетермическая плазма выносится потоком аргона, формируя холодную плазменную струю. Показано бактерицидное действие нетермической плазмы на вегетативную форму штаммов Escherichia coli.
A portable plasma sterilizer has been developed that pumps a plasma-forming gas (argon) through a swirler, which creates a helical vortex gas flow in the discharge gap. At a gas flow rate of >510–5 kg/s, the gas flow swirls, filling the entire cross-sectional area of the anode at the nozzle outlet with streamers. The non-thermal plasma generated in the discharge gap is carried away by the argon flow, forming a cold plasma jet. The bactericidal effect of non-thermal plasma on the vegetative form of Escherichia coli strains has been demonstrated
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
Разработан портативный источник нетермической аргоновой плазмы, формирующий в вихревом потоке газа холодную плазменную струю атмосферного давления. Установлена зависимость биоцидного эффекта плазменной обработки от закрутки рабочего газа. При небольших расходах газа (G ≤ 5×10–5 кг/с) формируется трехканальная структура разряда со стримерами, при этом антимикробный эффект выражен слабо. Значительно более выраженный эффект наблюдается при увеличении расхода газа (G ˃ 5×10– 5 кг/с) и закрутке потока: формируется объёмная нетермическая плазменная струя, при этом площадь зоны ингибирования после 10 с обработки значительно превышает площадь выходного сечения сопла. Это указывает на существенную роль не только наличия плазмы, но и ее пространственного распределения и объемного характера в достижении выраженного антимикробного действия.
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.
Список литературы
1. VanGils C., Hofmann S., Boekema B. K. H. L., Brandenburg R., Bruggeman P. J. / J. Phys. D Appl. Phys. 2013. Vol. 46. P. 175203.
2. Oh J.-S., Szili E. J., Gaur N., Hong S.-H., Furuta H., Kurita H., Mizuno A., Hatta A., Short R. D. / J. Phys. D Appl. Phys. 2016. Vol. 49. P. 304005.
3. Liu Z., Zhou C., Liu D., He T., Guo L., Xu D., Kong M. / AIP Adv. 2019. Vol. 9. P. 015014.
4. Milhan N. V. M., Chiappim W., Sampaio A. D. G., da Cruz Vegian M. R., Pessoa R. S., KogaIto C. Y. / Int. J. Mol. Sci. 2022. Vol. 23. P. 4131.
5. Schweigert I., Zakrevsky D., Milakhina E., Gugin P., Biryukov M., Polyakova A., Kryachkova N., Gorbunova E., Epanchintseva A., Pyshnaya I., Koval O. / Plasma Physics Reports. 2024. Vol. 50. P. 1375–1387.
6. Gherardi M., Tonini R., Colombo V. / Trends Biotechnol. 2017. Vol. 36. P. 583–585.
7. Lata S., Chakravorty S., Mitra T., Pradhan P. K., Mohanty S., Patel P., Jha E., Panda P. K., Verma S. K., Suar M. / Mater. Today Bio. 2022. Vol. 13. P. 100200.
8. Thirumdas R., Kothakota A., Annapure U., Siliveru K., Blundell R., Gatt R., Valdramidis V. P. / Trends Food Sci. Technol. 2018. Vol. 77. P. 21–31.
9. Subramanian P. G., Rao H., Shivapuji A. M., Girard-Lauriault P. L., Rao L. / J. Appl. Phys. 2021. Vol. 129. P. 093303.
10. Zhou R., Zhou R., Wang P., Xian Y., Mai-Prochnow A., Lu X. P., Cullen P. J., Ostrikov K., Bazaka K. / J. Phys. D Appl. Phys. 2020. Vol. 53. P. 303001.
11. Pan J., Li Y. L., Liu C. M., Tian Y., Yu S., Wang K. L., Zhang J., Fang J. / Plasma Chem. Plasma Process. 2017. Vol. 37. P. 1091–1103.
12. Guo J.-J., Li M.-D., Sun Q.-Q., Yang W., Zhou P., Ding S.-J., Zhang D. W. / Chem. Vap. Depos. 2013. Vol. 19. P. 156–160.
13. DeMelo T. F., Rocha L. C., Silva R. P., Pessoa R. S., Negreiros A. M. P., Sales Júnior R., Tavares M. B., Alves Junior C. / Materials. 2022. Vol. 15. P. 4854.
14. Chiappim W., Sampaio A., Miranda F., Fraga M., Petraconi G., Sobrinho A. D. S., Kostov K., KogaIto C., Pessoa R. / Water. 2021. Vol. 13. P. 1480.
15. Chiappim W., Sampaio A., Miranda F., Petra- coni G., Sobrinho A. S., Cardoso P., Kostov K., KogaIto C., Pessoa R. / Plasma Process. Polym. 2021. Vol. 18. P. 2100010.
16. Sampaio A. D. G., Chiappim W., Milhan N. V. M., Neto B. B., Pessoa R., KogaIto C. Y. / Int. J. Mol. Sci. 2022. Vol. 23. P. 13893.
17. Živani M., Espona-Noguera A., Lin A., Canal C. / Adv. Sci. 2023. Vol. 10 (8). P. 2205803.
18. Keidar M., Shashurin A., Volotskova O., Stepp M., Srinivasan P., Sandler A., Trink B. / Phys. Plasmas 2013. Vol. 20 (5). P. 057101.
19. Fridman G., Fridman G., Gutsol A., Shekhter A., Vasilets V., Fridman A. / Plasma Process. Polym. 2008. Vol. 5. P. 503–533.
20. Huang J., Li H., Chen W., Lv G., Wang X., Zhang G., Ostrikov K., Wang P., Yang S. / Appl. Phys. Lett. 2011. Vol. 99. P. 253701.
21. Keidar M., Walk R., Shashurin A., Srinivasan P., Sandler A., Dasgupta S., Ravi R., Guerrero-Preston R., Trink B. / Brit. J. Cancer. 2011. Vol. 105.
P. 1295.
22. Graves D. / J. Phys. D: Appl. Phys. 2012. Vol. 45 (26). P. 263001.
23. Lya L., Chenga X., Murthya S., Zhuang T., Jones O., Basadonna G., Keidar M., Canady J. / Clinical Plasma Medicine, 2023, in press.
24. https://www.shebaonline.org/canady-helios- coldplasma-scalpel-for-breast-cancer-treatment (Пpимeнeниe Canady Helios™ Cold Plasma).
25. Lacoste D. A., Bourdon A., Kuribara K., Urabe K., Stauss S., Terashima K. / Plasma Sources Science and Technology. 2014. Vol. 23. № 6. P. 062006.
26. Chepelev V. M., Chistolinov A. V., Khromov M. A., Antipov S. N., Gadzhiev M. Kh. / J. Phys.: Conf. Ser. 2020. Vol. 1556. P. 012091.
27. Antipov S. N., Sargsyan M. A., Gadzhiev M. Kh. / J. Phys.: Conf. Ser. 2020. Vol. 1698. P. 012029.
28. Chepelev V. M., Chistolinov A. V., Antipov S. N., Gadzhiev M. Kh. / J. Phys.: Conf. Ser. 2021. Vol. 2100. P. 012029.
29. Shimizu T., Steffes B., Pompl R., Jamitzky F., Bunk W., Ramrath K., Georgi M., Stolz W., Schmidt H.-U., Urayama T., Fujii S., Morfill G. E. / Plasma Process.
Polym. 2008. Vol. 5. P. 577.
30. Herbst F., Schalkwyk J. V., McGovern M. Comprehensive Clinical Plasma Medicine / Eds. Metelmann H. R., von Woedtke T., Weltmann K. D. – Springer: Cham, 2018.
31. Coulombe S., Le´veille´ V., Yonson S., Leask R. L. / Pure Appl. Chem. 2006. Vol. 78. P. 1147.
32. Yu H., Perni S., Shi J. J., Wang D. Z., Kong M. G., Shama G. / J. Appl. Microbiol. 2006. Vol. 101. P. 1323.
33. Sladek R. E., Filoche S. K., Sissons C. H., Stoffels E. / Lett. Appl. Microbiol. 2007. Vol. 45. P. 318.
1. VanGils C., Hofmann S., Boekema B. K. H. L., Brandenburg R., and Bruggeman P. J., J. Phys. D Appl. Phys. 46. 175203 (2013).
2. Oh J.-S., Szili E. J., Gaur N., Hong S.-H., Furuta H., Kurita H., Mizuno A., Hatta A., and Short R. D., J. Phys. D Appl. Phys. 49, 304005 (2016).
3. Liu Z., Zhou C., Liu D., He T., Guo L., Xu D., and Kong M., AIP Adv. 9, 015014 (2019).
4. Milhan N. V. M., Chiappim W., Sampaio A. D. G., da Cruz Vegian M. R., Pessoa R. S., and KogaIto C. Y., Int. J. Mol. Sci. 23, 4131 (2022).
5. Schweigert I., Zakrevsky D., Milakhina E., Gugin P., Biryukov M., Polyakova A., Kryachkova N., Gorbunova E., Epanchintseva A., Pyshnaya I., and Koval O., Plasma Physics Reports 50, 1375–1387 (2024).
6. Gherardi M., Tonini R., and Colombo V., Trends Biotechnol. 36, 583–585 (2017).
7. Lata S., Chakravorty S., Mitra T., Pradhan P. K., Mohanty S., Patel P., Jha E., Panda P. K., Verma S. K., and Suar M., Mater. Today Bio. 13, 100200 (2022).
8. Thirumdas R., Kothakota A., Annapure U., Siliveru K., Blundell R., Gatt R., and Valdramidis V. P., Trends Food Sci. Technol. 77, 21–31 (2018).
9. Subramanian P. G., Rao H., Shivapuji A. M., Girard-Lauriault P. L., and Rao L., J. Appl. Phys. 129, 093303 (2021).
10. Zhou R., Zhou R., Wang P., Xian Y., Mai-Prochnow A., Lu X. P., Cullen P. J., Ostrikov K., and Bazaka K., J. Phys. D Appl. Phys. 53, 303001 (2020).
11. Pan J., Li Y. L., Liu C. M., Tian Y., Yu S., Wang K. L., Zhang J., and Fang J., Plasma Chem. Plasma Process. 37, 1091–1103 (2017).
12. Guo J.-J., Li M.-D., Sun Q.-Q., Yang W., Zhou P., Ding S.-J., and Zhang D. W., Chem. Vap. Depos. 19, 156– 160 (2013).
13. DeMelo T. F., Rocha L. C., Silva R. P., Pessoa R. S., Negreiros A. M. P., Sales Júnior R., Tavares M. B., and Alves Junior C., Materials. 15, 4854 (2022).
14. Chiappim W., Sampaio A., Miranda F., Fraga M., Petraconi G., Sobrinho A. D. S., Kostov K., KogaIto C., and Pessoa R., Water. 13, 1480 (2021).
15. Chiappim W., Sampaio A., Miranda F., Petraconi G., Sobrinho A. S., Cardoso P., Kostov K., KogaIto C., and Pessoa R., Plasma Process. Polym. 18, 2100010 (2021).
16. Sampaio A. D. G., Chiappim W., Milhan N. V. M., Neto B. B., Pessoa R., and Koga-Ito C. Y., Int. J. Mol. Sci. 23, 13893 (2022).
17. Živani M., Espona-Noguera A., Lin A., and Canal C., Adv. Sci. 10 (8), 2205803 (2023).
18. Keidar M., Shashurin A., Volotskova O., Stepp M., Srinivasan P., Sandler A., and Trink B., Phys. Plasmas 20, 057101 (2013).
19. Fridman G., Fridman G., Gutsol A., Shekhter A., Vasilets V., and Fridman A., Plasma Process. Polym. 5, 503– 533 (2008).
20. Huang J., Li H., Chen W., Lv G., Wang X., Zhang G., Ostrikov K., Wang P., and Yang S., Appl. Phys. Lett. 99, 253701 (2011).
21. Keidar M., Walk R., Shashurin A., Srinivasan P., Sandler A., Dasgupta S., Ravi R., Guerrero-Preston R., and Trink B., Brit. J. Cancer. 105, 1295 (2011).
22. Graves D., J. Phys. D: Appl. Phys. 45, 263001 (2012).
23. Lya L., Chenga X., Murthya S., Zhuang T., Jones O., Basadonna G., Keidar M., and Canady J., Clinical Plasma Medicine, , in press. (2023).
24. https://www.shebaonline.org/canady-helios-coldplasma-scalpel-for-breast-cancer-treatment (Пpимeнeниe Canady Helios™ Cold Plasma).
25. Lacoste D. A., Bourdon A., Kuribara K., Urabe K., Stauss S., and Terashima K., Plasma Sources Science and Technology 23, 062006 (2014).
26. Chepelev V. M., Chistolinov A. V., Khromov M. A., Antipov S. N., and Gadzhiev M. Kh., J. Phys.: Conf. Ser. 1556, 012091 (2020).
27. Antipov S. N., Sargsyan M. A., and Gadzhiev M. Kh., J. Phys.: Conf. Ser. 1698, 012029 (2020).
28. Chepelev V. M., Chistolinov A. V., Antipov S. N., and Gadzhiev M. Kh., J. Phys.: Conf. Ser. 2100, 012029 (2021).
29. Shimizu T., Steffes B., Pompl R., Jamitzky F., Bunk W., Ramrath K., Georgi M., Stolz W., Schmidt H.-U., Urayama T., Fujii S., and Morfill G. E., Plasma Process. Polym. 5, 577( 2008).
30. Herbst F., Schalkwyk J. V., and McGovern M. Comprehensive Clinical Plasma Medicine / Eds. H. R. Metelmann, T. von Woedtke, K. D. Weltmann. Springer: Cham, 2018.
31. Coulombe S., Le´veille´ V., Yonson S., and Leask R. L., Pure Appl. Chem. 78, 1147 (2006).
32. Yu H., Perni S., Shi J. J., Wang D. Z., Kong M. G., and Shama G., J. Appl. Microbiol. 101, 1323 (2006).
33. Sladek R. E., Filoche S. K., Sissons C. H., and Stoffels E., Lett. Appl. Microbiol. 45, 318 (2007).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ОБЩАЯ ФИЗИКА
Усовершенствованные кумулятивные облицовки типа полусфера-цилиндр для взрывного формирования компактных медных элементов в широком диапазоне скоростей Федоров С. В., Болотина И. А., Струков Ю. А., Мерзлякова П. В. 7
Рассеяние электромагнитной волны неоднородным плазмоидом Наумов Н. Д., Петровский В. П. 15
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Исследование фотоприемных структур КРТ со сверхрешетками в качестве барьера средневолнового ИК диапазона спектра Болтарь К. О., Бурлаков И. Д., Яковлева Н. И., Трухачев А. В., Иродов Н. А., Войцеховский А. В., Горн Д. И., Михайлов Н. Н. 21
Характеристики МДП-структур с диэлектрическими слоями Al2O3/SiOx, выращенными на эпитаксиальном слое HgCdTe Романов А. А., Болтарь К. О., Трухачев А. В., Поляков А. Я. 30
Эпитаксиальное выращивание твердых растворов InAlSb слоев с низким содержанием алюминия Кривобок В. С., Пручкина А. А., Ченцов С. И., Савин К. А., Минаев И. И., Ерошенко Г. Н., Клековкин А. В., Лосунов А. С., Николаев С. Н. 39
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Воздействие разряда на распыл воды вихревой форсункой при различном ее давлении Савельев А. С., Панов В. А., Куликов Ю. М. 45
Методика анализа интерференционных картин в двухволновой интерферометрии лидерных каналов атмосферных разрядов Батраков П. К., Байдин И. С., Родионов А. А., Болотов Я. К., Гасратов Ф. К., Старовойтова П. А., Медведев М. А., Куриленков Ю. К., Огинов А. В. 53
Воздействие мощного микроволнового излучения на порошок из смеси гранул металлов и окислов Майоров С. А., Голятина Р. И. 61
Исследование масс-зарядового состава плазмы в момент зажигания и погасания вакуумной дуги с медно-хромовыми электродами Николаев А. Г., Гридилев В. Д., Гушенец В. И., Фролова В. П., Юшков Г. Ю. 69
Экспериментальное исследование электрофизических и спектроскопических параметров плазмы тлеющего разряда с микрополым катодом Шершунова Е. А., Романов К. И., Небогаткин С. В. 76
ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Исследование профиля состава и электрофизических параметров гетероструктур CdxHg1–xTe/Cd0,96Zn0,04Te Чилясов А. В., Моисеев А. Н., Евстигнеев В. С., Дроздов М. Н., Денисов И. А., Трофимов А. А. 84
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Портативный источник объемной холодной плазменной струи для биомедицинских применений Балданов Б. Б., Семенов А. П., Ранжуров Ц. В. 89 Разработка и исследование конструкции реактора металлоорганической газофазной эпитаксии нитридов III группы Сысоев И. А., Гордиевич И. О., Касьянов И. В., Шипулин А. В., Шипулина Е. Н. 96
Мобильная система определения атмосферной турбулентности одноапертурным методом Шалдырван И. В., Комаров В. В., Фокин М. Ю., Егоров В. А. 103
Система дистанционной беспроводной передачи данных Когновицкий С. О. 111
ПЕРСОНАЛИИ
Юбилейная дата Евгения Алексеевича Климанова 117
Юбилейная дата Леонида Михайловича Василяка 118
ИНФОРМАЦИЯ
Правила для авторов 120
C O N T E N T S
GENERAL PHYSICS
Improved shaped-charge liners of the hemisphere-cylinder type for explosive forming compact copper elements over a wide range of velocities Fedorov S. V., Bolotina I. A., Strukov Yu. A., and Merzlyakova P. V. 7
Electromagnetic wave scattering on inhomogeneous plasmoid Naumov N. D. and Petrovskiy V. P. 15
PHOTOELECTRONICS
Investigation of MWIR HgCdTe Barrier Photodetector Structures with superlattices as barriers Boltar K. O., Burlakov I. D., Iakovleva N. I., Trukhachev A. V., Irodov N. A., Gorn D. I., and Mikhailov N. N. 21
Characteristics of MIS structures with Al2O3/SiOх dielectric layers grown on the surface of HgCdTe epitaxial layer Romanov A. A., Boltar K. O., Trukhachev A. V., and Polyakov A. Y. 30
Epitaxial growth of low-aluminum-content InAlSb solid-solution layers Krivobok V. S., Pruchkina A. A., Chentsov S. I., Savin K. A., Minaev I. I., Eroshenko G. N., Klekovkin A. V., Losunov A. S., and Nikolaev S. N. 39
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
The effect of discharge on water spray from a vortex nozzle at different pressures Saveliev A. S., Panov V. A., Kulikov Yu. M. 45
A Method for Analyzing Interferograms in Two-Wavelength Interferometry of Leader Channels in Atmospheric Discharges Batrakov P. K., Baidin I. S., Rodionov A. A., Bolotov Ya. K., Gasratov F. K., Starovoitova P. A., Medvedev M. A., Kurilenkov Yu. K., and Oginov A. V. 53
On the effect of powerful microwave radiation on powdered mixtures of granular metals and oxides Maiorov S. A. and Golyatina R. I. 61
Study of the mass-to-charge composition of plasma at the moment of ignition and extinction of a vacuum arc with copper-chromium electrodes Nikolaev A. G., Gridilev V. D., Gushenets V. I., Frolova V. P., and Yushkov G. Yu. 69
Experimental study of electrophysical and spectroscopic parameters of a microhollow cathode glow discharge plasma Shershunova E. A., Romanov K. I., and Nebogatkin S. V. 76
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
Study of the composition profile and electrophysical parameters of CdxHg1–xTe/Cd0.96Zn0.04Te heterostructures Chilyasov A. V., Moiseev A. N., Evstigneev V. S., Drozdov M. N., Denisov I. A., and Trofimov A. A. 84
PHYSICAL EQUIPMENT AND ITS ELEMENTS
A portable source of a volumetric cold plasma jet for biomedical applications Baldanov B. B., Semenov A. P., and Ranzhurov Ts. V. 89
Development and study of the reactor design for metal‑organic gas-phase epitaxy of group III nitrides Sysoev I. A., Gordievich I. O., Kasianov I. V., Shipulin A. V., and Shipulina E. N. 96
Mobile system for determining atmospheric turbulence using the single aperture method Shaldyrvan I. V., Komarov V. V., Fokin M. Yu., and Egorov V. A. 103
Remote wireless data transmission system Kognovitskii S. O. 111
PERSONALIA
Anniversary of E. A. Klimanov 117
Anniversary of L. M. Vasilyak 118
INFORMATION
Rules for authors 120
Другие статьи выпуска
Предложен конструктивный облик системы дистанционной беспроводной оптической передачи данных на основе отражающего матричного экрана. Экспериментально подтверждена работоспособность ключевого элемента экрана – ячейки с изменяемой отражательной способностью. Особенностью системы является возможность работоспособности экрана при низких арктических температурах и его энергоэффективность.
Разработана мобильная система для измерения атмосферной турбулентности с использованием метода одной апертуры. Это метод мониторинга дифференциальных движений изображения (DIMM), предполагающий неклассическое исследование большого количества изображений, полученных с помощью одного фотодетектора.
Представлены результаты проектирования и численного моделирования отечественного реактора для металлоорганической газофазной эпитаксии (МОГФЭ) нитридов III группы (III-N), а также экспериментального получения пленок AlN. Ключевой особенностью разработанной конструкции является коаксиальная схема подачи прекурсоров в сочетании с активным водяным охлаждением промежуточной зоны. Это позволяет эффективно минимизировать паразитные газофазные реакции и термогравитационную конвекцию. Методами вычислительной гидродинамики показано, что данное техническое решение обеспечивает температуру газов ниже 450 C, предотвращая преждевременное разложение металлоорганических прекурсоров до их смешения. Проведена экспериментальная оптимизация параметров роста пленок AlN на подложках Si(100). Установлено, что максимальная толщина плотного коалесцировавшего слоя составляет 800 нм и достигается при температуре подложки 700 C и соотношении потоков TMA/NH3, равном 0,53, что соответствует переходу процесса в диффузионно-контролируемый режим. Обсуждаются перспективы применения высокочастотной плазменной активации для синтеза метастабильных твердых растворов AlGaInN.
Исследованы профиль элементного состава и электрофизические параметры гетеро-структур CdxHg1–xTe/Cd0,96Zn0,04Te. В качестве летучих прекурсоров использовали высокочистые диметилкадмий, диэтилтеллур, диизопропилтеллур и металлическую ртуть. В подобранных условиях получены слои CdxHg1–xTe с х = 0,26–0,32 и толщиной 3–8 мкм. Концентрация и подвижность носителей заряда в слоях при температуре 77 K составляла (5–400)×1015 см-3 и 150–400 см2/(В⋅с), соответственно. Исследования методом вторично-ионной массспектрометрии подтвердили наличие в слоях областей с повышенным содержанием лития. Примесь лития является акцептором в CdxHg1–xTe и может определять его тип проводимости и холловскую концентрацию носителей заряда. Наиболее вероятным источником лития в слоях является подложка Cd0,96Zn0,04Te.
Представлены результаты экспериментального исследования электрофизических и спектроскопических параметров плазмы тлеющего разряда с микрополым катодом при прокачке аргоном. Получены экспериментальные зависимости величины выносимого на проводящую мишень заряда от расхода аргона и расстояния до мишени. Снят оптический эмиссионный спектр плазмы внутри реактора с полым микрокатодом, по которому произведена оценка электронной температуры плазмы.
В вакуумных выключателях, устройствах для аварийного отключения тока промышленной частоты амплитудой до десятков килоампер при размыкании контактов неизбежно возникает вакуумная дуга. В данной работе исследовался масс-зарядовый состав плазмы, образующейся при формировании, функционировании и погасании вакуумной дуги с плотностью тока, типичной для вакуумных выключателей. Исследовались два набора медно-хромовых электродов, применяемых в вакуумных выключателях с процентным соотношением меди и хрома – 70 %/30 % и 50 %/50 %, соответственно, при наложении на межэлектродный промежуток аксиального магнитного поля с величиной магнитной индукции около 1 Тл и в случае отсутствия магнитного поля.
Выполнен анализ экспериментов с импульсным воздействием излучения гиротрона интенсивностью 30 кВт/см2 и длительностью порядка 10 мс на границу раздела порошок-воздух атмосферного давления. В составе порошка имелись полидисперсные частицы размером 5–10 мкм из различных металлов (алюминия, меди, железа, серебра или платины) и окислов. Рассмотрена задача о разлете частиц порошка с его поверхности в окружающий газ. Для этого выполнен анализ процессов нагрева гранул разного размера в результате поглощения микроволнового излучения, теплопроводности воздуха, металлических пылинок и окислов, сделаны оценки скорости нагрева пылинок и их разлета в атмосферу из-за повышения давления воздуха в порах порошка.
Представлена методика исследования пространственной структуры лидерных каналов атмосферных газовых разрядов. На основе цифровой обработки интерферограмм, включающей автоматическое выделение центров полос, обратное преобразование Абеля и радиально-базисную интерполяцию, детально реконструированы двумерные карты пространственного распределения электронной плотности. Выявлены характерные особенности радиальной структуры и градиентов плотности в каналах разряда, подтверждающие высокую устойчивость предложенного комплексного подхода к диагностике нестационарной плазмы. Совокупность представленных результатов подтверждает, что разработанная методика применима к лабораторным атмосферным разрядам.
Экспериментально исследовано влияние импульсно-периодического искрового разряда, инициируемого вблизи пленки жидкости у выходного отверстия вихревой форсунки, на пространственное распыление воды. Разряд зажигался между заостренным высоковольтным электродом (положительная полярность, 14 кВ) и поверхностью пленки. Измерения проведены в диапазоне частот следования разрядов 0,1–40 кГц при избыточных давлениях воды от 0,5 до 4 бар. По данным скоростной теневой визуализации количественно определена ширина конуса распыла и введен параметр H/H0, характеризующий относительное увеличение ширины (угла) пространственного распыления при включении разряда. Показано, что зависимость H/H₀ от частоты носит немонотонный характер с выраженным максимумом, положение которого смещается в область более высоких частот с ростом давления воды, тогда как абсолютная величина максимума снижается. Наибольшее значение H/H0 5 – при давлении 0,5–1 атм. Обнаруженный эффект объясняется генерацией волны сжатия в канале разряда, сообщающей каплям дополнительный радиальный импульс и вызывающей раннее разрушение пленки. Обсуждается энергетическая эффективность метода при различных давлениях воды.
Методом молекулярно-пучковой эпитаксии на подложках InSb(100) получены слои напряженных твердых растворов InAlSb с низким содержанием алюминия. Слои охарактеризованы с помощью рентгеноструктурного анализа, атомно-силовой микроскопии и низкотемпературной фотолюминесценции. Показано, что в диапазоне температур 350–390 С возможно получение однородных по составу и свободных от дефектов твердых растворов InAlSb с краем фундаментального поглощения, смещенным в коротковолновую область по отношению к InSb.
Выращивание тонких диэлектрических плёнок Al2O3 методом атомно-слоевого осаждения на поверхности теллурида кадмия-ртути – перспективный метод пассивации поверхности полупроводника для создания матричных ИК-фотоприемников. Исследование направлено на поиск методов уменьшения плотности интерфейсных состояний встроенного в диэлектрик заряда, а также концентрации медленных ловушек в выращенных слоях для нескольких вариаций диэлектрических слоёв, включающих Al2O3 и SiOx. Показано, что при осаждении дополнительного слоя SiOx поверх Al2O3 удаётся добиться снижения плотностей эффективного накопленного заряда в диэлектрике и на интерфейсных состояниях, а также заряда, обусловленного медленными ловушками, до значений 4,61011 см–2 и –5,31010 см–2, соответственно. Прогнозируется возможность устранения эффекта гистерезиса вольт-фарадных характеристик МДП-структур Ni/SiOx/Al2O3/HgCdTe при определённом соотношении толщин SiOx/Al2O3.
Созданы и исследованы фотоприемные структуры КРТ средневолнового ИК-диапазона спектра (MWIR) на основе nBn-гетероструктур со сверхрешетками HgTe/CdHgTe в качестве барьеров. Выявлены новые технологические подходы для дальнейшего совершенствования методов пассивации поверхности nBn-архитектур и улучшения их характеристик. Измерены вольт-амперные и спектральные характеристики, а также основные параметры ФЧЭ экспериментальных образцов.
Рассматривается упрощенный метод оценки рассеяния плоской электромагнитной волны неоднородным плазмоидом, где по аналогии с принципом Гюйгенса рассеянное поле представляется в виде суперпозиции полей волн, источниками которых являются переменные токи, возбуждаемые падающей волной в небольших объемах плазмы. С помощью этого метода проведены расчеты эффективной площади рассеяния сферически симметричного плазмоида с радиальной неоднородностью концентрации электронов. Проведено сравнение с результатами аналогичных вычислений на основе решения задачи дифракции плоской электромагнитной волны на плазмоиде.
Для исследований поведения материалов и объектов при высокоскоростном ударном воздействии предлагается использовать кумулятивные заряды с усовершенствованными комбинированными облицовками типа полусфера-цилиндр. По данным проведенного численного моделирования показано, что замена в таких облицовках, изготовленных из меди, полусферической части с постоянной толщиной на слегка вытянутую вдоль оси симметрии полуэллипсоидную с толщиной, снижающейся от ее вершины к основанию, позволяет получать компактные элементы, движущиеся со скоростями до 9,5 км/с.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400