Статья: Влияние условий формирования пленок системы W-C при магнетронном распылении вольфрама с введением летучих углеводородов в плазменный разряд (2026)

Читать онлайн

Представлены результаты экспериментального исследования формирования соединений WC в процессе магнетронного распыления вольфрама в среде углеводородов на поверхности стеклянной подложки. Установлено, что режим работы магнетрона влияет на формирование и структуру поверхности растущей пленки. В области напряжений, приложенных к вольфрамовой мишени, в плазме разряда происходит полная диссоциация всех используемых углеводородов. Свободный углерод растворяется в растущей пленке вольфрама. При относительно низких напряжениях на магнетроне в системе W-C формируются в основном две фазы – a-WC и W2C, с преобладанием WC. Повышение напряжения на магнетроне увеличивает скорость распыления и долю W2C. В работе приведена оценка изменения микроструктуры поверхности пленок WC и W2C методом атомно-силовой микроскопии – АСМ. Показана перспективность данного метода для получения соединений тугоплавких металлов с углеродом

This paper presents experimental studies on the formation of a WC compound during magnetron sputtering of tungsten in a hydrocarbon environment on the surface of a glass substrate. It has been established that different magnetron operating modes affect the formation and surface structure of the growing film. In the range of voltages applied to the tungsten target, all hydro-carbons used in the experiment completely dissociate in the discharge plasma. Free carbon dis-solves in the growing tungsten film, and at relatively low magnetron voltages, two chemical compounds are mainly formed in the W-C system: a-WC and W2C, with WC predominating. As the magnetron voltage increases, the sputtering rate increases, and the proportion of W2C in-creases. In this paper, changes in the surface microstructure of WC and W2C films are assessed using atomic force microscopy (AFM). The potential of this method for producing compounds of refractory metals with carbon is demonstrated.

Ключевые фразы: магнетронное распыление, вольфрам, графит, модификация поверхности, плазмохимический синтез
Автор (ы): Кононов Михаил Анатольевич (Kononov M. A.), Савранский Валерий Васильевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
533.924. Взаимодействие плазмы с поверхностью твердого тела
Для цитирования:
КОНОНОВ М. А., САВРАНСКИЙ В. В. ВЛИЯНИЕ УСЛОВИЙ ФОРМИРОВАНИЯ ПЛЕНОК СИСТЕМЫ W-C ПРИ МАГНЕТРОННОМ РАСПЫЛЕНИИ ВОЛЬФРАМА С ВВЕДЕНИЕМ ЛЕТУЧИХ УГЛЕВОДОРОДОВ В ПЛАЗМЕННЫЙ РАЗРЯД // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2026. №4
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.