Статья: Методы создания системы металлизации с индиевыми микроконтактами для кремниевых матричных МОП-мультиплексоров (2008)

Читать онлайн

Рассмотрены особенности различных вариантов технологических маршрутов изготовления многослойной системы металлизации с индиевыми микроконтактами (системы V—Al—Mo, V—Al—V, V—Al—Cr—Ni). Приведены данные, обосновывающие применение каждого из слоев металла для достижения необходимых электрических параметров мультиплексоров и обеспечения нужной адгезии индия к верхнему слою металла при формировании индиевых микроконтактов.

Information about multi-film metallization of silicon multiplexers with indium bump is given. In the report is grounded every film of metal for achievement necessary electric characteristics and good adhesion in bump to upper metallic surface.

Ключевые фразы: фотоприемники, фотоэлементы с внутренним фотоэффектом, фоторезистеры
Автор (ы): Акимов В. М. (Akimov V. M.), Васильева Л. А., Каган Н. Б., Климанов Е. А., Курбет И. Ю., Лисейкин В. П., Микертумянц Артем Рубенович, Седнев Михаил Васильевич, Серегина Н. Н., Щукин С. В.
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.383.4. Фотоэлементы с внутренним фотоэффектом. Фоторезисторы
621.383.5. Фотоприемники с запирающим слоем
Для цитирования:
АКИМОВ В. М., ВАСИЛЬЕВА Л. А., КАГАН Н. Б., КЛИМАНОВ Е. А., КУРБЕТ И. Ю., ЛИСЕЙКИН В. П., МИКЕРТУМЯНЦ А. Р., СЕДНЕВ М. В., СЕРЕГИНА Н. Н., ЩУКИН С. В. МЕТОДЫ СОЗДАНИЯ СИСТЕМЫ МЕТАЛЛИЗАЦИИ С ИНДИЕВЫМИ МИКРОКОНТАКТАМИ ДЛЯ КРЕМНИЕВЫХ МАТРИЧНЫХ МОП-МУЛЬТИПЛЕКСОРОВ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2008. №1
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (10)
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.