Статья: Реактивное магнетронное напыление пленок оксидов ванадия для неохлаждаемых болометров (2008)

Читать онлайн

Исследованы характеристики магнетронного разряда при реактивном распылении V в смесях Ar c O2 при различных скоростях откачки напылительной камеры. Выяснены условия реализации стабильного и нестабильного (гистерезисного) режимов распыления. Дополнительная стабилизация режима распыления по давлению кислорода позволяет повысить воспроизводимость электрических характеристик пленок VOx. При равных величинах температурного коэффициента сопротивления (ТКС) оптимальное легирование молибденом приводит к снижению удельного сопротивления пленок (V—Mo)Ox на порядок.

Magnetron discharge characteristics as a function of chamber pumping speed were measured at reactive sputtering of V-targets in Ar/O2 mixtures. Both stable and unstable (hysteretic) regimes of sputtering are realized. Additional control of oxygen partial pressure during film deposition increases the reproducibility of VOx film electric characteristics. Sputtering of V–7%Mo target results in ten fold decreasing р value as compared with undopped films.

Ключевые фразы: получение тонких пленок, реактивное распыление, физика
Автор (ы): Марченко В. А. (Marchenko V. A.)
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
539.23. Получение тонких слоев, тонких пленок
Для цитирования:
МАРЧЕНКО В. А. РЕАКТИВНОЕ МАГНЕТРОННОЕ НАПЫЛЕНИЕ ПЛЕНОК ОКСИДОВ ВАНАДИЯ ДЛЯ НЕОХЛАЖДАЕМЫХ БОЛОМЕТРОВ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2008. №1
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.