Статья: Оптические материалы в проекционных оптических системах фотолитографических установок ГУФ-диапазона: современное состояние и тенденции в разработке и применении (2009)

Читать онлайн

Представлены результаты сравнительного анализа современного состояния и тенденций в разработке и применении оптических материалов — кварца и флюорита в проекционных оптических системах 193-нм литографических установок для производства сверхбольших интегральных микросхем (СБИС). Показано, что плавленый кварц и его модифицированные формы занимают доминирующую роль в качестве основного оптического материала и обладают большими потенциальными возможностями для создания современных и перспективных установок 193-нм иммерсионной литографии. Отмечена тенденция уменьшения процентного содержания флюорита в общем объеме оптических материалов проекционных объективов за счет использования новых технических решений и методов проектирования.

The results of comparative analysis of the current state and tendency of development and application of CaF2 and fused silica in DUV lithographic projection exposure systems for ICs production are presented. Fused silica and its modified forms are shown to have dominated as a key optical materials and have great potentials for the purpose of creating up-to-date and perspective models of 193-nm immersion lithography systems. The tendency of CaF2 percentage reduction in total volume of optical materials in projection lens is noted. It is achieved by using new engineering solutions and designing methods.

Ключевые фразы: оптические материалы, проекционные оптические системы фотолитографических установок гуф-диапазона, кварц и флюорит
Автор (ы): Анчуткин Владимир Степанович (Anchutkin V. S.), Бельский Александр Борисович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
681.7.03. Материалы для оптического производства
Для цитирования:
АНЧУТКИН В. С., БЕЛЬСКИЙ А. Б. ОПТИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ В ПРОЕКЦИОННЫХ ОПТИЧЕСКИХ СИСТЕМАХ ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКИХ УСТАНОВОК ГУФ-ДИАПАЗОНА: СОВРЕМЕННОЕ СОСТОЯНИЕ И ТЕНДЕНЦИИ В РАЗРАБОТКЕ И ПРИМЕНЕНИИ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2009. №2
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (10)
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.