Читать онлайн

Представлены результаты исследования многослойной системы на основе эпитаксиальной пленки HgCdTe с тонкими слоями CdTe, ZnTe. Структуры характеризуются отсутствием гистерезиса, низкой плотностью встроенного заряда и плотностью поверхностных состояний Nss<3·1010 см-2-эВ-1. Такая система близка по ряду характеристик к структурам металл—диэлектрик—полупроводник (МДП) и представляется перспективной для создания многоэлементных ИК ФПУ на основе КРТ.

The applications of HgCdTe MOS structures as photosensitive elements in the spectral range 3— 5 µm is known. However, for fabrication a high-quality gate dielectric (silicon dioxide and nitride), it necessary to carry out the growth process at substrate heating above 180 °C, which deteriorates drastically the properties of semiconductor layers. It seems promising to use wide-gap II—VI semiconductor films which growned on the surface of the absorbing layer instead of the gate dielectric immediately after growing the HgCdTe working layer.

Ключевые фразы: гетероэпитаксиальные структуры, полупроводники, ИК-излучение
Автор (ы): Гузев А. А. (Guzev A. A.), Варавин Василий Семенович, Дворецкий Сергей Алексеевич, Ковчавцев Анатолий Петрович, Курышев Георгий Леонидович, Ли И. И., Панова З. В., Сидоров Ю. Г., Якушев Максим Витальевич
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
Для цитирования:
ГУЗЕВ А. А., ВАРАВИН В. С., ДВОРЕЦКИЙ С. А., КОВЧАВЦЕВ А. П., КУРЫШЕВ Г. Л., ЛИ И. И., ПАНОВА З. В., СИДОРОВ Ю. Г., ЯКУШЕВ М. В. ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЕ СВОЙСТВА СТРУКТУР ZNTE/CDTE/HGCDTE // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2009. №2
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.