Использование планарного магнетрона для напыления ферромагнитных пленок микронной и нанометровой толщины (2010)
Представлен планарный магнетрон на постоянном токе с толстой никелевой, железной или стальной мишенью для напыления ферромагнитных пленок на подложку. Мишень нагревалась магнетронным разрядом выше магнитной температуры Кюри. Измерены вольт-амперные характеристики (ВАХ), скорости распыления мишени, а также осаждения пленок на подложки и электропроводности пленок.
Издание:
ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА
Выпуск:
№3 (2010)