Оптические материалы в проекционных оптических системах фотолитографических установок ГУФ-диапазона: современное состояние и тенденции в разработке и применении (2009)
Представлены результаты сравнительного анализа современного состояния и тенденций в разработке и применении оптических материалов — кварца и флюорита в проекционных оптических системах 193-нм литографических установок для производства сверхбольших интегральных микросхем (СБИС). Показано, что плавленый кварц и его модифицированные формы занимают доминирующую роль в качестве основного оптического материала и обладают большими потенциальными возможностями для создания современных и перспективных установок 193-нм иммерсионной литографии. Отмечена тенденция уменьшения процентного содержания флюорита в общем объеме оптических материалов проекционных объективов за счет использования новых технических решений и методов проектирования.
Издание:
ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА
Выпуск:
№2 (2009)
Акустооптический метод спектрально-поляризационного анализа изображений (2010)
Рассмотрена система спектрального и поляризационного анализа изображений на основе перестраиваемого акустооптического фильтра. Использована особая геометрия дифракции Брэгга в парателлурите, при которой ортогонально поляризованные компоненты светового поля рассеиваются в противоположные дифракционные порядки. Для сравнения интенсивностей пучков с различной поляризацией применяется одновременная регистрация +1 и –1 порядков дифракции.
Издание:
ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА
Выпуск:
№1 (2010)