Статья: Исследование планарных фотодиодных структур на пленках InSb, полученных на сапфире методом продольной кристаллизации (2008)

Читать онлайн

Приведены результаты исследования методами наведенного тока планарных фотодиодных структур на основе эпитаксиальных пленок InSb, полученных продольной кристаллизацией на сапфире, с применением имплантации ионов Ве+ и анодной оксидной пленки с последующим нанесением пленки SiOx для защиты поверхности. Представлен сравнительный анализ результатов в случае применения серийных монокристаллов разных марок и кристаллов на основе эпитаксиальных пленок.

In this paper presented results of planar photodiode structures on epitaxial films of InSb investigation with electron beam induced current method. Epitaxial films obtained on sapphire by linear crystallization. Photodiodes formed with Be+-ions implantations for production p+-n-junction and anodic oxidation for surface defense. Also presented relative analysis of results for serial InSb single crystals and epitaxially-grown crystals.

Ключевые фразы: фотодиоды, неорганическая химия, планарные фотодиодные структуры на пленках insb
Автор (ы): Астахов В. П. (Astahov V. P.), Карпов В. В., Крапухин Вячеслав Всеволодович, Максимов А. Д., Падалко А. Г., Пашкова О. Н., Якимов Е. Б.
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
546. Неорганическая химия
621.383.52. Фотодиоды
Для цитирования:
АСТАХОВ В. П., КАРПОВ В. В., КРАПУХИН В. В., МАКСИМОВ А. Д., ПАДАЛКО А. Г., ПАШКОВА О. Н., ЯКИМОВ Е. Б. ИССЛЕДОВАНИЕ ПЛАНАРНЫХ ФОТОДИОДНЫХ СТРУКТУР НА ПЛЕНКАХ INSB, ПОЛУЧЕННЫХ НА САПФИРЕ МЕТОДОМ ПРОДОЛЬНОЙ КРИСТАЛЛИЗАЦИИ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2008. №3
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (10)
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.