Технология обработки поверхности диафрагмы для фотоприемников в диапазоне 3—12 мкм (2010)
Изготовление матричного фотоприемника (МФП) с высокими параметрами требует выполнения комплектующих деталей внутри прибора с минимальными коэффициентами отражения. По стандартной технологии для этого используется нанесение различных антиотражающих покрытий на детали (ZnS, ZnSe, чернение). Проведена обработка поверхности тонкостенных деталей из ковара в целях получения определенной шероховатости для снижения зеркального отражения в рабочем диапазоне длин волн МФП. Разработаны бинарные растворы на основе азотной кислоты.
Издание:
ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА
Выпуск:
№3 (2010)