Статья: Многоэлементные быстродействующие фотодиоды на основе гетероструктур InGaAs/InP (2012)

Читать онлайн

Рассмотрены основные применения матричных InGaAs/InP фотоприемных устройств. Описана технология изготовления матрицы InGaAs/InP фотодиодов. Рассмотрены ключевые операции: плазмохимическое осаждение пленки Si3N4 в качестве просветляющего, защитного и маскирующего покрытия, вскрытие активной области и контактных окон в пленке Si3N4, процесс диффузии, процесс напыления металлических контактов. Указаны основные особенности и параметры технологических режимов.

Investigated are the multiunit fast-acting photodiodes on the basis of the InGaAs/InP heterostructures. Obtained are the basic technological operations.

Ключевые фразы: МАТРИЦА, фоточувствительный элемент, гетероэпитаксиальная структура ingaasinp, фотолитография, диффузия, плазмохимическое осаждение
Автор (ы): Андреев Дмитрий Сергеевич (Andreev D. S.), Гришина Татьяна Николаевна, Залетаев Николай Борисович, Тришенков Михаил Алексеевич, Чинарева Инна Викторовна
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
621.315.5. Проводники и полупроводники по виду материала
Для цитирования:
АНДРЕЕВ Д. С., ГРИШИНА Т. Н., ЗАЛЕТАЕВ Н. Б., ТРИШЕНКОВ М. А., ЧИНАРЕВА И. В. МНОГОЭЛЕМЕНТНЫЕ БЫСТРОДЕЙСТВУЮЩИЕ ФОТОДИОДЫ НА ОСНОВЕ ГЕТЕРОСТРУКТУР INGAAS/INP // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2012. №4
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.