Статья: Особенности планарных p+—n-переходов на кремнии и антимониде индия (2012)

Читать онлайн

На основе анализа опубликованных и оригинальных экспериментальных результатов представлены две общие характерные особенности планарных p+—n-переходов на Si и InSb, а именно, наличие эффекта электротренировки и положительное влияние на прямые и обратные ветви ВАХ дополнительного короткозамкнутого близкорасположенного планарного p+—n-перехода. Обсуждены механизмы проявления каждой из этих особенностей и дано предположение о возможности их повторения на планарных p+—n-переходах из других полупроводниковых материалов.

Obtained are two common characteristic peculiarities of the planar p+—n-junctions on Si and InSb — presence of the electrotraining effect and positive influence of the additional neareplaced planar short-circuit p+—n-junctions on the direct and reverse volt-ampear characteristics. These peculiarities are discussed. It can be made a supposition that they will repeat on planar p+—n-junctions from others semiconductor materials.

Ключевые фразы: планарный p—n-переход, антимонид индия, кремний, эксперимент
Автор (ы): Астахов Владимир Петрович (Astahov V. P.), Лихачёв Геннадий Михайлович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
535.247. Объективная фотометрия (с помощью химических, электрохимических, термоэлектрических, фотоэлектрических и т.п. методов)
Для цитирования:
АСТАХОВ В. П., ЛИХАЧЁВ Г. М. ОСОБЕННОСТИ ПЛАНАРНЫХ P+—N-ПЕРЕХОДОВ НА КРЕМНИИ И АНТИМОНИДЕ ИНДИЯ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2012. №4
Текстовый фрагмент статьи
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.