Статья: Анодирование алюминия и кремния в плазме несамостоятельного тлеющего разряда (2011)

Читать онлайн

Приведены результаты анодирования кремния и алюминия в кислородной плазме. Плазма образована несамостоятельным тлеющим разрядом с полым катодом, для возбуждения которого при давлении кислорода 20 Па применялся электронный пучок. Плотность тока через анодируемый образец не превышала 1,5 мА/см2, а его температура составляла 200— 250 °С. На поверхности алюминия и кремния формировались сплошные бездефектные пленки Al2O3 u SiO2. Скорости роста слоев окислов составили 150—200 нм/ч для Al2O3 u 400—800 нм/ч для SiO2.

Results of silicon and aluminum anodization in oxygen plasma are presented. Plasma was formed by the hollow cathode discharge in which an electron beam excitation at the oxygen pressure 20 Pa was applied. The current density through anodized sample did not exceed 1.5 mA/cm2, and its temperature was 200—250 °C. On the aluminum and silicon surfaces, the continuous faultless Al2O3 and SiO2 films were formed. Growth rates of oxide layers were 150—200 nm/hour for Al2O3 and 400—800 nm/hour for SiO2.

Ключевые фразы: ОКСИДИРОВАНИЕ, тлеющий разряд, кислородная плазма
Автор (ы): Бурачевский Юрий Александрович (Burachevskiy Y. A.), Бурдовицин Виктор Алексеевич, Окс Ефим Михайлович
Журнал: ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА

Предпросмотр статьи

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
533.9. Физика плазмы
621.38. Электроника. Фотоэлектроника. Электронные лампы, трубки. Рентгенотехника. Ускорители частиц
Для цитирования:
БУРАЧЕВСКИЙ Ю. А., БУРДОВИЦИН В., ОКС Е. АНОДИРОВАНИЕ АЛЮМИНИЯ И КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ НЕСАМОСТОЯТЕЛЬНОГО ТЛЕЮЩЕГО РАЗРЯДА // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2011. №2
Текстовый фрагмент статьи
Моя история просмотров (10)
Будьте первым, кто начнет обсуждение

Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.