Исследованы матричные ультрафиолетовые фотоприемные модули (УФМ) формата 320х256 элементов на основе гетероэпитаксиальных структур AlxGa1-xN (ГЭС AlGaN), чувствительные в видимо-слепом и солнечно-слепом диапазонах УФ диапазона. ГЭС AlGaN выращивались методами мосгидридной эпитаксии (МОС) и молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) на сапфировых подложках. Качество p-i-n-фотодиодов оценивалось по измерению вольт-амперных характеристик
UV visible-blind and solar-blind 320х256 FPAs based on the AlxGa1-xN heterostructures have been developed and investigated. AlxGa1-xN heterostructures were grown by both MOCVD and MBE methods on sapphire substrates. The readout circuit (ROIC) on the basis of the capacitive transimpedance amplifi er (CTIA) was used to integrate and read AlGaN p-i-n photodiodes currents. The dark current of AlGaN p-i-n photodiodes in mesa-structure with pitch 30 μm was less then 10–13 A and differential resistance was more then 3.1013 Ohm
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
Наиболее перспективным направлением построения УФМ является использование матриц р─i─n-фотодиодов на основе гетероэпитаксиальных структур AlGaN/GaN, которые позволяют реализовать наибольшие значения обнаружительной способности и вольтовой чувствительности. Матрицы формата 320×256 элементов с шагом 30 мкм формировались с помощью разделения верхних эпитаксиальных слоев на мезаобласти в гетероструктурах AlGaN/GaN, выращенных на подложках Al2O3, c толщиной эпитаксиальных фоточувствительных и фотодиодных слоев ни- тридов от 0,2 до 0,3 мкм для достижения максимальной квантовой эффективности.
Превышение коэффициентов неидеальности вольтамперной характеристики p─i─n- фотодиодов значения n > 2 связано с влиянием технологии получения омических контактов на качество переходов. Уменьшение коэффициента неидеальности ВАХ достигается дополнительным легированием контактного слоя.
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.
Список литературы
1. Бурлаков И.Д., Войцеховский А.В., Несмелов С.Н., Гринченко Л.Я. // Нано- и микросистемная техника. 2012. № 6. С. 46
2. Бурлаков И.Д., Войцеховский А.В., Несмелов С.Н., Журавлев К.С. // Нано- и микросистемная техника. 2012. № 7. С. 37
3. Алтухов А.А., Митягин А.Ю., Клочкова А.М., Орлова Г.А. // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2008. № 3. С. 3
4. Reine M.B. et al.. // Proc. of SPIE. 2006. V. 6119. P. 611901–1
5. Long J.P., Varadaraajan S., Matthews J., and Schetzina J.F. // Opto-Electron. Rev. 2002. V. 10. No. 4. P. 251
6. Khan M. A, Shatalov M., Maruska H.P. et al. // Japanese Journal of Applied Physics. 2005. V. 44. No. 10. P. 7191
7. Khan M.A., Kuznia J.N., Olson D.T. et al. // Appl. Phys. Lett. 1992. V. 60. P. 2917.
8. Khan M.A., Kuznia J.N., Olson D.T. et al. // Appl. Phys. Lett. 1993. V.63. P. 2455
9. Katz O., Garber V., Meyler B. et al. // Appl. Phys. Lett. 2001. V. 79. P. 1417
10. Katz O., Bahir G., and Salzman J.// Appl. Phys. Lett. 2004. V. 84. P. 4092.
11. Chen Q., Khan M.A., Sun C.J., and Yang J.W., // Electron. Lett. 1995. V. 31. P. 1781.
12. McClintock Ryan, Cicek Erdem, Vashaei Zahra et al.// Proc. SPIE. 2007. V. 7780. P. 77801B-2
13. Хромов С.С., Зайцев А.А. // Прикладная физика. 2011. № 1. С. 112
14. Cohen T. Zhu L. Liu M. et al. // IEEE APEC Austin. 2005. P. 311
15. Бурлаков И.Д., Болтарь К.О., Седнев М.В. // Прикладная физика. 2007. № 5. С. 58
16. Stratton R. Tunneling in Schottky barrier rectifi ers, in Tunneling Phenomena in Solids, 1967 NATO Advanced Study Institute at RisЕ Denmark, Plenum Press, New York.
17. Hadis M. Handbook of Nitride Semiconductors and Devices. 2002. V. 2 18 Shah J. M. et al..// Journal of Applied Physics. 2003. V. 94. No. 4
19. McClintock R. et al. // Proc. of SPIE. 2001. V. 4288.
Выпуск
Другие статьи выпуска
Целью данной работы является исследование диффузии цинка в фосфид индия и гетероструктуры n-InP/n-In0.53Ga0.47As/n+-InP. Исследованы профили распределения концентрации носителей заряда в диффузионных структурах. Определен коэффициент диффузии цинка в монокристаллическом и эпитаксиальном InP, в n-InP/n-In0.53Ga0.47As/n+-InP. Определена зависимость времени диффузии от толщины эпитаксиального слоя и подобрана формула, удобная для практических расчетов. Показано, что данный технологический процесс может быть использован в технологии изготовления pin-фотодиодов на основе структур n-InP/n-In0.53Ga0.47As/n+-InP. Приведены вольт-амперные и вольт-фарадные характеристики фотодиодов.
Представлены результаты работы по созданию гетероструктур AlGaN/AlN на подложках сапфира методом МОС-гидридной эпитаксии, пригодных для изготовления матриц ультрафиолетовых p─i─n-фотодиодов солнечно-слепых фотоприемных устройств, и результаты исследований ультрафиолетовых матричных фотоприемников формата 320х256 на их основе. Методом высокоразрешающей микроскопии исследованы дефекты поверхности гетероструктур AlGaN и их влияние на дефектность элементов ультрафиолетовых матричных фотоприемников
В аппаратуре на основе МФПУ среднего инфракрасного диапазона спектра динамическая взаимосвязь может существенно ухудшить тактико-технические характеристики. В данной работе разработана методика оценки динамической взаимосвязи и выявлены основные закономерности явления, проведено исследование динамической взаимосвязи при различных технологиях изготовления матричных фоточувствительных элементов (МФЧЭ) и различных пассивирующих покрытиях. Результаты исследований показали, что для уменьшения динамической взаимосвязи, повышения воспроизводимости и величины чувствительности МФПУ, необходимо применять пассивацию напылением пленки ZnS.
Исследованы матрицы чувствительных элементов на основе p–i–n-фотодиодов из AlGaN формата 320×256 элементов с шагом 30 мкм и размером фоточувствительной площадки 20×20 мкм2 для подтверждения возможности создания матричных ультрафиолетовых фотоприемных устройств. Качество p–i–n-фотодиодов оценивалось по измерению вольтамперных характеристик. Темновые токи, измеренные между разделенными элементами в мезаструктуре, составили менее 10–13 A, а сопротивление более 1012 Ом·см
Проведен анализ существующих моделей показателя преломления КРТ. Разработана усовершенствованная модель показателя преломления, основанная на уравнениях Хёви-Ван-дамма и Крамерса-Кронига. Усовершенствована методика определения характеристик многослойных ГЭС КРТ по спектрам ИК-пропускания. Использование новой модели показателя преломления позволило уменьшить значения среднеквадратичных отклонений расчётных зависимостей от экспериментальных на 1–2% для сложных структур, выращенных методами МЛЭ и осаждением из МОС.
Предлагается современная концепция изготовления матричных фотоприемных устройств на основе существующих способов изготовления поликристаллических пленок халькогенидов свинца с фоточувствительностью в области спектра 2–3 и 3–4,5 мкм. Фотоприемник представляет собой тонкопленочные фоторезисторы, непосредственно нанесенные на микросхему КМОП мультиплексора, обеспечивающего накопление на время кадра и считывание фотоэлектрических сигналов. Для достижения высоких фотоэлектрических параметров фотоприемник в составе фотопремного устройства установлен на охлаждаемой поверхности термоэлектрического охладителя, обеспечивающего температуру охлаждения фотоприемника 200 К.
Исследованы температурные зависимости фотоэлектрических параметров матриц фотодиодов инфракрасного диапазона 1–3 мкм на основе эпитаксиальной структуры КРТ состава x = 0,414, выращенной методом осаждения из металлоорганических соединений и ртути (MOC-эпитаксия). Показано, что высокие характеристики чувствительности фотодиодов КРТ при температурах охлаждения Т = 160–170 К позволяют применять фотоприемники на основе эпитаксиальных слоев КРТ, выращенных МОС-эпитаксией, в перспективной оптико-электронной аппаратуре.
На основе точного решения уравнения Ланжевена рассчитаны корреляторы случайных полей (СП) концентрации и тока подвижных носителей заряда в гомогенном полупроводнике и в ИК фотодиоде с базой конечной длины. Показано, что в базе p–n-перехода рассматриваемые СП являются неоднородными даже при нулевом смещении, когда кон- центрация и ток подвижных носителей заряда не зависят от координаты. Установлено, что равновесные СП концентрации и тока подвижных носителей заряда в объеме гомогенного полупроводника являются однородными, а в приповерхностных областях — неоднородными даже при нулевой скорости поверхностной рекомбинации. Обоснована оптимальная структура ИК-фотодиода с коррелированной обработкой сигнала и шума.
Проведен анализ особенностей применения многорядных фотоприемных устройств с режимом ВЗН для регистрации точечных источников излучения. Определены зависимости регистрируемого сигнала и отношения сигнал/шум от размера фоточувствительных элементов, размера и положения пятна в фокальной плоскости, времени интегрирования фототока. Проведена оценка требований на синхронность скорости сканирования и опроса матрицы чувствительных элементов.
Представлены результаты воздействия импульсного мягкого рентгеновского излучения лазерной плазмы на морфологию поверхности твердых растворов эпитаксиальных слоев CdxHg1-xTe. Увеличение дозы облучения приводит к росту перепада высот микровыступов и шероховатости.
Статья посвящена разработке проекционного зеркально-линзового объектива оптического зонда для стенда измерения фотоэлектрической связи инфракрасных многоэлементных фотоприемных устройств диапазона спектра 2,7─3,2 мкм. В ходе работы было проведено математическое моделирование, подтвердившее возможность контроля фотоприемных устройств диапазона 2,7─3,2 мкм по методике, приведенной в ГОСТ 17772, а также определены основные требования к качеству изображения и точности позиционирования объектива, проведен синтез оптической системы.
Разработан новый метод определения квантовой эффективности и темнового тока фоточувствительных элементов матричных ФПУ. Метод основан на экспериментально опробованной аналитической модели этих устройств, позволяющей рассчитывать все их параметры, в том числе сигнал и шум приборов. Метод опробован и позволяет получить полный массив величин этих важнейших характеристик в матрицах фоточувствительных элементов. Метод позволяет быстро определить значения средней квантовой эффективности и темнового тока каждого фоточувствительного элемента матрицы и экспрессно квалифицировать качество приборов.
Статистика статьи
Статистика просмотров за 2026 год.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400