1. Поверхностное упрочнение лемехов плугов методом вакуумной термообработки / М. Ю. Бадекин, В. Г. Борулько, В. И. Балабанов [и др.] // Наука в центральной России. 2025. № 3 (75). С. 125-135. EDN: MPWRQE
2. Физико-математическая модель абразивного износа сормайтовых наплавок после вакуумной термообработки / М. Ю. Бадекин, В. Г. Борулько, В. И. Балабанов, Н. Н. Ивахненко // Наука в центральной России. 2025. № 4 (76). С. 139-148. EDN: RLSJMM
3. Barshilia H. C., Rajam K. S. Raman spectroscopy studies on the thermal stability of TiN, CrN, TiAlN coatings and nanolayered TiN/CrN, TiAlN/CrN multilayer coatings // Journal of Materials Research. 2004.Vol. 19. рр. 3196-3205. DOI: 10.1557/JMR.2004.0444 EDN: XSUFPZ
4. Effect of Annealing on Properties of the TiN & TiAlN Coatings Deposited on Powder Metallurgy High Speed Steel (S790) / C. Cao, Z. Lin-Xiang, D. Chun, Z. Xiang // Applied Mechanics and Materials. 2013. Vols. 477-478. рр. 1397-1402. DOI: 10.4028/www.scientific.net/AMM.477-478.1397
5. Chun J.-S. Interfacial reaction pathways and kinetics during annealing of 111-textured Al/TiN bilayers: A synchrotron x-ray diffraction and transmission electron microscopy study / J.-S. Chun, P. Desjardins, C. Lavoie, I. Petrov, C. Cabral, Jr., J. E. Greene // Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 2001. Vol. 19, № 5. рр. 2207-2216. DOI: 10.1116/1.1379800
6. Кумыков Т. С. Обобщенная модель Лифшица-Слезова-Вагнера в рамках теории коалесценции облачных аэрозолей // Доклады Адыгской (Черкесской) Международной академии наук. 2014. Т. 16. № 3. С. 61-63. EDN: SZIAYJ
7. Таланин В. И., Таланин И. Е. Высокотемпературная преципитация примесей в рамках модели Власова для твердых тел // Кристаллография. 2019. Т. 64. № 4. С. 550-554. EDN: JMTPND
8. Кумыков Т. С. Математическое моделирование процесса коалесценции облачных частиц во фрактальной среде // Научные ведомости Белгородского государственного университета. Серия: Математика. Физика. 2018. Т. 50, № 1. С. 97-104. EDN: YTIMHZ
9. Овчаренко А. М., Чернов И. И., Голубов С. И. Моделирование коалесценции газовых пор при отжиге // Атомная энергия. 2010. Т. 109. № 6. С. 315-324. EDN: NDZYBD
10. Маркидонов А. В., Коваленко В. В., Старостенков М. Д. Компьютерное моделирование процесса укрупнения зерен ГЦК кристаллов при внешних энергетических воздействиях // Фундаментальные проблемы современного материаловедения. 2019. Т. 16. № 3. С. 349-354. EDN: SDCOWY
11. Киселев В. М., Голованова О. А. Применение теории фракталов для изучения процесса кристаллизации брушита в присутствии добавок // Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов. 2019. № 11. С. 307-314. EDN: JZTSKJ
12. Müller P., Saúl A. Elastic effects on surface physics // Surface Science Reports. 2004. Vol. 54, Issues 5-8. рр. 157-258. EDN: MFCRWL
13. Kumm J. Analysis of Al diffusion processes in TiN barrier layers for the application in silicon solar cell metallization / J. Kumm, H. Samadi, R. V. Chacko, P. Hartmann, A. Wolf // Journal of Applied Physics. 2016. Vol. 120, № 2. Art. 025304. DOI: 10.1063/1.4954684 EDN: WRKCUD
14. Konstantiniuk F. Annealing activated substrate element diffusion and its influence on the microstructure and mechanical properties of CVD TiN/TiCN coatings / F. Konstantiniuk, M. Schiester, M. Tkadletz, C. Czettl, N. Schalk // Surface and Coatings Technology. 2024. Vol. 488. Art. 131079. DOI: 10.1016/j.surfcoat.2024.131079 EDN: KWZQIB
15. Галенко П. К. Феноменологическая теория образования первичной структуры при кристаллизации сплавов: автореф. дис. … канд. физ.-мат. наук: 01.04.07 / Галенко Петр Константинович. Ижевск, 1991. 25 с. EDN: ZKBTVN
16. Van der Drift A. Evolutionary selection, a principle governing growth orientation in vapor-deposited layers // Philips Research Reports. 1967. Vol. 22, No. 3. P. 267.
17. Линников О. Д. Соотношение между энергиями активации процессов зарождения и роста кристаллов в классической теории нуклеации при учете сольватации частиц кристаллизующегося вещества в растворе // Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов. 2010. № 2. С. 88-95. EDN: OXAYKX