В обзоре приводится сравнительный анализ результатов экспериментов по исследованию параметров и характеристик плазмы, создаваемой различными способами в диэлектрическом сосуде: при инжекции непрерывного электронного пучка током 10–40 мА и энергией 2–8 кэВ в цилиндрическую кварцевую полость, а также безэлектродным индуктивным ВЧразрядом, генерируемым внешней квадрупольной антенной, причем в форвакуумном диапазоне давлений (1–15 Па) рабочих газов (Ar, N2). Приводятся сравнения продольных и радиальных профилей концентрации, а также величин температуры электронов и потенциала, характерных для упомянутых видов плазмы. Показано, что оба способа позволяют осуществить генерацию однородной плазмы в диэлектрической полости с концентрацией 109–1011 см-3 и температурой электронов 2–4 эВ.
The review contains the comparative analysis of experiments on research of parameters and characteristics of plasma generated in dielectric volume by two different methods – by injection of continuous electron beam with current of 10–40 mA and energy of 2–8 keV, in cylindrical quartz hollow, and by traditional method using electrodeless inductively-coupled RF discharge driven by quadrupole antenna. These two kinds of plasmas both were produced in fore-vacuum pressure range (1–15 Pa) of working gases (Ar, N2). We compare the axial and radial profiles of plasma density, and values of parameters (electron temperature and potential) of mentioned plasmas. It is shown that both methods allow one to produce uniform plasma inside the dielectric volume, with density of 109–1011 cm-3 and electron temperature of 2–4 eV.
Предпросмотр статьи
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- eLIBRARY ID
- 29045735
Если у вас возникли вопросы или появились предложения по содержанию статьи, пожалуйста, направляйте их в рамках данной темы.